保定EDI超純水設(shè)備生產(chǎn)廠家 EDI純水設(shè)備安裝

保定EDI超純水設(shè)備生產(chǎn)廠家  EDI純水設(shè)備安裝

工作原理：

      電去離子(Electrodeionization 簡稱EDI)是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機地結(jié)合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù)，它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對填充在淡水室中的離子交換樹脂進行電化學(xué)再生。
　　EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負電極組成。在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進入濃水室形成濃水。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。超極限電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹脂進行連續(xù)的再生。傳統(tǒng)的離子交換，離子交換樹脂飽和后需要化學(xué)間歇再生。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)再生，工作是連續(xù)的，不需要酸堿化學(xué)再生。

保定EDI超純水設(shè)備生產(chǎn)廠家  EDI純水設(shè)備安裝應(yīng)用領(lǐng)域：

       EDI超純水技術(shù)具有技術(shù)先進、操作簡便、無污染，是清潔生產(chǎn)技術(shù)，在微電子工業(yè)、電力工業(yè)、醫(yī)藥工業(yè)、化工工業(yè)和實驗室等領(lǐng)域得到日趨廣泛的應(yīng)用。

 EDI超純水設(shè)備又稱電去離子設(shè)備，一般用于電子光學(xué)行業(yè)生產(chǎn)用水，如半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學(xué)鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路等生產(chǎn)用水需求． 
科利達環(huán)保服務(wù)內(nèi)容：
  包括設(shè)備工藝設(shè)計、系統(tǒng)制造、安裝、現(xiàn)場安裝、系統(tǒng)試裝調(diào)整、設(shè)備保修、及售后服務(wù)等。 
設(shè)計參考標準：
    1）建設(shè)方提供的相關(guān)技術(shù)資料，技術(shù)說明，及基本技術(shù)要求；
    2）國家現(xiàn)行有關(guān)設(shè)計規(guī)范、施工及驗收規(guī)范、質(zhì)量評定標準；
    3）反滲透系統(tǒng)設(shè)計依據(jù)美國；
    4）ZBG98020-90《水處理設(shè)備系列型譜》；
    5）電力裝置的繼電保護和自動裝置設(shè)計規(guī)范(GB50062-1992)；
    6) 工業(yè)與民用電力裝置的接地設(shè)計規(guī)范(GBJ65-1983)；
    7）GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM （25℃）95％以上時間；  

EDI超純水設(shè)備簡述： 

既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水稱為超純水,我國電子工業(yè)部將電子工業(yè)用水劃分為四級用水標準（18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM），科利達環(huán)保采用采用當今先進的雙級反滲透純化水處理技術(shù)＋EDI模塊化設(shè)計,原水通過一、二級反滲透系統(tǒng)去除各種鹽份及雜質(zhì),再經(jīng)過EDI系統(tǒng)對反滲透產(chǎn)水高度凈化，使水質(zhì)提高。此電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，系統(tǒng)工藝先進、水質(zhì)穩(wěn)定、自動化程度高、操作簡便、占地少、運行費用低、綠色環(huán)保、維護方便,處理后可生產(chǎn)出水電阻率可達到18.2兆的超純水。