張家口EDI超純水設(shè)備 反滲透凈化水設(shè)備生產(chǎn)廠家

 一、EDI超純水簡介     超純水（高純水）是指將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導(dǎo)率小于0. 2μs/cm。 

二、使用超純水的行業(yè)6-8T/H 全自動軟水器，軟化水設(shè)備,采用潤新10噸/小時全自動流量型控制閥，325L上海勁凱國標(biāo)陽離子樹脂，600*1900mm榮鑫泰襯PE玻璃鋼樹脂罐，300升食品級優(yōu)質(zhì)PE鹽箱，ABS上下布水器，中心管等優(yōu)質(zhì)配件組成，每小時流量5噸，雙閥雙罐同時產(chǎn)水10噸/小時。循環(huán)水補水系統(tǒng)，或者使用頻率不高的系統(tǒng)可以選單閥單罐配置，不間斷供水的系統(tǒng)選雙閥雙罐配置，可以一用一備，也可以同時產(chǎn)水，軟水器分別再生。     使用超純水行業(yè)都是對水質(zhì)要求極高，甚至達(dá)到苛刻要求的地步，如果水質(zhì)不能達(dá)到要求就會造成產(chǎn)品質(zhì)量下降，產(chǎn)品成為殘次或者不合格產(chǎn)品。     1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。     2、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水。     3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水，這些行業(yè)是超純水使用較為廣泛的行業(yè)。 

三、EDI超純水制備技術(shù)發(fā)展史     第一代：預(yù)處理 -陽床-陰床-混床     建議：第一代超純水工藝優(yōu)點只有一個第一次投入費用較低，即可啟動。缺點是后期維護復(fù)雜、漫長、投入較高、強酸強堿會造成第二次環(huán)境污染，累計人力物力財力較高，不建議使用。     第二代：預(yù)處理 -反滲透-混床     建議：第二代超純水工藝相對第一代有了極大地改變，增加了反滲透裝置，優(yōu)點是反滲透裝置去除98%以上的雜質(zhì)，能夠大大的提高超純凈水的精度。缺點是還會使用陰陽離子，還會出現(xiàn)后期反復(fù)的再生和強酸強堿的第二次環(huán)境污染。     第三代：預(yù)處理 -反滲透-電去離子（EDI）     建議：第三代超純水出現(xiàn)了質(zhì)的飛躍，優(yōu)勢十分明顯，超純水出水水質(zhì)穩(wěn)定可靠，無后續(xù)再生和二次環(huán)境污染，缺點是一次性設(shè)備投入成本較高。     本公司本著對用戶負(fù)責(zé)的原則推薦客戶使用第二代工藝和第三代工藝。 四、EDI凈水設(shè)備簡介     電去離子（EDI）系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對電極之間，通常由陰膜，陽膜和隔板（甲、乙）多組交替排列，構(gòu)成濃室和淡室（即陽離子可透過陽膜，陰離子可透過陰膜）。淡室水中陽離子向負(fù)極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達(dá)到淡化，提純，濃縮或精制的目的。